準(zhǔn)分子激光清洗系統(tǒng)
Ex-light是新一代準(zhǔn)分子激光清洗系統(tǒng)。采用了先進(jìn)進(jìn)口超穩(wěn)定的準(zhǔn)分子激光器，通過光束傳導(dǎo)、勻化、投影技術(shù)，使激光均勻照射到材料表面，對材料進(jìn)行紫外激光加工。
準(zhǔn)分子激光清洗系統(tǒng)能以非接觸方式精準(zhǔn)去除污漬，對基底無損傷，清洗速度快、結(jié)構(gòu)設(shè)計緊湊，集成度高，光路穩(wěn)定實用，光斑勻化效果好，傳輸效率高，增強(qiáng)樣品表面激光能量密度，提高加工質(zhì)量和效率。可靈活調(diào)控參數(shù)適配不同材料和污染物，無耗材且不產(chǎn)生二次污染，能實現(xiàn)自動化與局部精細(xì)清洗，應(yīng)用范圍廣。
Ex-light是新一代準(zhǔn)分子激光清洗系統(tǒng)。采用了先進(jìn)進(jìn)口超穩(wěn)定的準(zhǔn)分子激光器，通過光束傳導(dǎo)、勻化、投影技術(shù)，使激光均勻照射到材料表面，對材料進(jìn)行紫外激光加工。
準(zhǔn)分子激光清洗系統(tǒng)能以非接觸方式精準(zhǔn)去除污漬，對基底無損傷，清洗速度快、結(jié)構(gòu)設(shè)計緊湊，集成度高，光路穩(wěn)定實用，光斑勻化效果好，傳輸效率高，增強(qiáng)樣品表面激光能量密度，提高加工質(zhì)量和效率?？伸`活調(diào)控參數(shù)適配不同材料和污染物，無耗材且不產(chǎn)生二次污染，能實現(xiàn)自動化與局部精細(xì)清洗，應(yīng)用范圍廣。
應(yīng)用領(lǐng)域：
1、襯底清洗；
2、激光解鍵合；
3、薄膜選擇性去除；
4、掩模板清洗；
5、柔性電路板加工；
6、玻璃表面微結(jié)構(gòu)；
7、芯片管腳PAD焊線前激光清洗、液晶顯示器清洗
8、各種焊接處焊后激光清洗；
9、材料表面各種雜質(zhì)、氧化物、微小顆粒物、油污去除。
技術(shù)特點：
1、Duv準(zhǔn)分子激光器，短脈寬，高峰值功率；
2、靜態(tài)氣體壽命 >30天；
3、激光器壽命 >20億次脈沖；
4、多種光路方案，可定制；
5、反射/透射照明；
6、X，Y位移臺安裝在剛性花崗巖基座上，線性驅(qū)動，1μm分辨率；
7、電動焦點控制（沿Z軸）；
8、配有同軸和離軸相機(jī)，模式識別軟件可選；
9、快速響應(yīng)時間，易于操作的軟件；
10、同軸機(jī)器視覺示意圖，所見即所得；
光束傳播特點：
1、能量控制 10-80%；
2、投影縮倍4x-20x ，可定制；
3、工作距離>25mm；
4、目標(biāo)能量密度 0.25-10J/cm2 ；
5、同軸顯微成像；
6、光斑勻化系統(tǒng)；
軟件功能：
1、圖形化加工路徑顯示；
2、晶圓自動聚焦、自動對位；
3、大視野晶圓導(dǎo)航圖；
4、激光參數(shù)設(shè)定及調(diào)試；
5、加工進(jìn)程控制、中斷自動恢復(fù)；
6、芯片參數(shù)導(dǎo)入；
7、壞點剔除功能；
光路勻化介紹：微透鏡陣列勻光成像示意圖
準(zhǔn)分子激光傳輸/照明/機(jī)器視覺系統(tǒng)示意圖
晶圓清洗監(jiān)控界面-所見即所得
加工代碼、路線、導(dǎo)航界面
Mlase準(zhǔn)分子激光器
采用德國Mlase準(zhǔn)分子激光器作為光源，能量輸出穩(wěn)定，光束質(zhì)量好，有較短脈沖寬度和較高峰值功率。免維護(hù)設(shè)計，使用簡便、安全、穩(wěn)定、高效。
參數(shù)：
波長：193nm /248nm |
脈沖寬度：5-10 ns |
單光斑加工面積：＞400μm x 400μm |
光學(xué)分辨率：1μm |
最高能量密度：>10J/cm2 |
脈沖穩(wěn)定性：≤2% |
脈沖重復(fù)頻率：1-1000Hz |
系統(tǒng)框架：大理石光學(xué)基座以及金屬框架結(jié)構(gòu) |
機(jī)器視覺：同軸照明/觀察，所見即所得 |
投影物鏡：紫外超長工作距離物鏡 |
掩膜版位移臺：100mm x100mm，定位精度:±1μm |
Z軸電動平臺：50mm行程，±1μm重復(fù)定位精度 |
衰減器：電動可調(diào)、調(diào)節(jié)范圍15%-80% |
控制軟件：LPCPro3D自動加工處理軟件 |
總機(jī)：0316-6154030
